半導体

motherboard circuits with processor半導体業界では、マイクロチップの小型化・複雑化が進んでおり、標準的な製造装置は時代遅れとまではいかないまでも、限られた用途にしか使われなくなってきています。また、半導体デバイスの高度なパッケージングに伴う新材料や新構造の急速な発展は、新たな課題をもたらし、より微細なレーザーシステムの使用につながっています。比類ない精度を誇るAmplitude社のフェムト秒レーザーは、このような新しい課題のニーズに完璧に応えています。

主な用途は以下の通りです。

> 計測。計測:ウェーハの厚み測定と薄層の特性評価
> 選択的アブレーション。ミクロンからナノメートルまでの薄い層を、隣接する層に影響を与えることなく除去する。
> ダイシング:マイクロチップのダイシングを、現在の方法(ダイヤモンドソーや従来のレーザー)とは比較にならない精度と品質で行うことができます。
> 高精度ドリル加工。高精度ドリル加工:様々な材料(硬質セラミックス、ポリマー、透明材料)への微細な穴あけ加工

推奨製品

Tangor 300 product Amplitude Laser

Tangor 300

パワフルで多機能なTangor 300は、あらゆる産業用途および理科学のニーズに対応します。 Tangor 300は、生産プロセス及び研究を加速させます。 Tangor 300は、高繰り返し率、オンデマンドのパルス、高エ...
  • 中心波長
    343 nm ~ 1030 nm
  • 平均出力
    100W ~ > 300W
  • パルスあたりのエネルギー
    200µJ ~ 3 mJ

Tangor

高出力・多機能を有するフェムト秒レーザー /Tangor は、高繰り返し率 (最大 40 MHz、ご要求に応じて調整可能) とパルスあたりの高エネルギー (最大 1 mJ、ご要求に応じて複数のビームに分割可能) を組み合...
  • 平均出力
    50W以上300W未満
  • パルスあたりのエネルギー
    300μJ超から3mJまで
  • パルス幅
    < 500 fs ~ > 10 ps

Terra

Terra Nd:YLFレーザーは、このクラスで最も小型のレーザーです。キロヘルツの繰り返し周波数で高い平均出力(50W以上)を発生させます。当社独自の共振器内周波数倍化により、通常共振器外設計で必要とされ、光損傷を引き...
  • 平均出力 @3kHz
    20 ~ 50W
  • パルス繰り返し率
    0.1-10kHz
  • 0.1-1kHzのパルスエネルギー
    15 ~ 30mJ

Mesa

Mesaシリーズのレーザーは、小さなカーフ幅と優れたエッジ品質が最も重要なプロセス要件である微細加工を含む、幅広い理科学・産業用途に適しています。このシリーズのレーザーは、非点収差のない円形ビームと優れた安定性で最適化さ...
  • パワーCW
    20~100W
  • 10kHzにおけるパワー
    10~75W
  • 波長
    1064 & 532nm