Amplitude est présent à CLEO

C’est avec plaisir que nous vous annonçons que nous serons présent à l’édition de 2019 de CLEO (Conference on Lasers and Electro-Optics) 2019 qui se tient du 5 au 10 Mai prochain. N’hésitez pas à venir nous voir au stand 1635 du Convention Center de San Jose.

Nos experts présents sur place vous accueillerons avec plaisir.

Nous donnerons aussi des conférences, qui se tiendrons Lundi 6 et Mardi 7, sur divers sujets liés aux lasers ultracourts. Pour plus de détails, vous pouvez consulter le planning ci-dessous:

 

 

 

 

Lundi 6 Mai 2019

9:45 – 10:00 – Executive Ballroom 210E (Convention Center)

Compact, high-efficiency, ultrafast 2-cycles sources at 1030nm

Présenté par Kaikai Zhang, Ingénieur de Systèmes Lasers ultracourts à Amplitude Laser Group.

 

2:30 – 3:00 – Executive Ballroom 210E (Convention Center)

Industrial kilowatt femtosecond lasers: potentialities and challenge

Présenté par Clemens Hoenninger, Directeur R&D à Amplitude Laser Group.

 

Mardi 7 Mai 2019

14:45 – 15:00 – Salle de réunion 211A/B (Convention Center)

Efficient ablation of silicon with a high power GHz femtosecond laser source

Présenté parEric Mottay, Président d’Amplitude Laser Group

 

17:00 – 17:15 – Executive Ballroom 210E (Convention Center)

Latest developments at Amplitude in the frame of the ELI-HU projects. PW laser at high repetition rate

Présenté par Franck Falcoz,  Responsable Business Development à Amplitude Laser Group

 

18:30 – 18:45 – Salle de réunion 211 A/B

>300-W femtosecond laser with free triggering up to 25 MHz

Présenté par Clemens Hoenninger, Directeur R&D à Amplitude Laser Group